D265 Borosilikat Optyczne Szkło Platformy Nośnikowe Niska Autofluorescencja Wysoka płaskość Chemicznie odporna

1. Podstawowe informacje o produkcie

Nazwa produktu: D265 Niskoautofluorescencyjna szklana platforma nośna z borokrzemianu o wysokiej płaskości Materiał bazowy: szkło optyczne borokrzemianowe klasy 1 o wysokiej odporności hydrolitycznej D265 Technologia przetwarzania: dwustronne polerowanie optyczne, precyzyjne szlifowanie fazowania, ultra-czyste czyszczenie Standardowe opcjonalne rozmiary: niestandardowe kształty kwadratowe lub okrągłe; standardowa grubość 0,17-1,2 mm, płaskość ≤2 μm, całkowita zmienność grubości TTV ≤1 μm

2. Główne zastosowania

Precyzyjnie monolitycznie obrobiony ze specjalnego szkła borokrzemianowego D265 o niskiej alkaliczności, ten nośnik charakteryzuje się ultra-niską autofluorescencją, wysoką przepuszczalnością światła, odpornością na kwasy i zasady, niską rozszerzalnością cieplną i doskonałą płaskością. Jest szeroko stosowany jako podłoże nośne do obserwacji mikroskopowych, tymczasowego łączenia półprzewodników, testów biologicznych, litografii optycznej i precyzyjnego sprzętu laboratoryjnego.

3. Kluczowe zalety (w porównaniu ze zwykłymi nośnikami ze szkła borokrzemianowego/płyty szklanej)

Ultra-niska autofluorescencja: formuła D265 o niskiej alkaliczności minimalizuje fluorescencję tła, eliminując zakłócenia światła rozproszonego w mikroskopii fluorescencyjnej; Doskonała stabilność chemiczna: najwyższa odporność hydrolityczna wytrzymuje długotrwałe działanie rozpuszczalników organicznych, słabych kwasów i zasad z zerowym osadzaniem jonów; Niska rozszerzalność cieplna i stabilność termiczna: CTE dopasowane do płytek krzemowych, odporne na wypaczanie i pękanie podczas cykli temperaturowych i procesów wysokotemperaturowych; Doskonała przepuszczalność optyczna: wysoka transmisja światła UV i widzialnego z zerową aberracją chromatyczną, kompatybilna z obserwacją optyczną, procesami laserowego i UV odklejania; Ultra-precyzyjna płaskość: dwustronne polerowanie o wysokiej precyzji z ściśle kontrolowaną płaskością i tolerancją grubości, spełniające wymagania precyzji na poziomie mikronów dla półprzewodników i optyki precyzyjnej; Niska zawartość alkalii i brak zanieczyszczeń: niska zawartość alkalii zapobiega uszkodzeniu komórek i zanieczyszczeniu płytek/reagentów o wysokiej czystości, idealne do procesów produkcyjnych o wysokiej czystości.