Precyzyjny rowkowany podkład kwarcowy 90x18x3mm, wysokiej czystości, płyta optyczna

Rowkowana podstawa kwarcowa to precyzyjnie obrobiona płyta kwarcowa o wysokiej czystości o wymiarach całkowitych 90 x 18 x 3 mm, posiadająca precyzyjne rowkowanie wykonane na jednolitą głębokość na obszarze roboczym. Wykonana z kwarcu topionego o wysokiej czystości, podstawa oferuje dwustronnie polerowaną powierzchnię bez zarysowań, która chroni obrabiane elementy optyczne podczas obsługi i pomiarów. Połączenie doskonałej płaskości i ścisłej tolerancji obróbki rowków sprawia, że płyta jest niezawodną platformą do pozycjonowania elementów w zespołach optycznych i systemach pomiarów wysokotemperaturowych. Dzięki silnej stabilności termicznej i odporności na kwasy i zasady, ta rowkowana podstawa zachowuje swoją integralność wymiarową i optyczną w trudnych warunkach, zapewniając niezawodną wydajność w precyzyjnych zastosowaniach optycznych.

• Jednolita głębokość rowka: Precyzyjny rowek jest obrabiany na stałą głębokość i geometrię, zapewniając stabilne osadzenie i dokładne pozycjonowanie obrabianych elementów.
• Dwustronnie polerowana powierzchnia bez zarysowań: Obie powierzchnie są wykończone gładko i bez defektów, chroniąc elementy optyczne i próbki przed uszkodzeniem.
• Odporność na wysokie temperatury oraz kwasy i zasady: Korpus kwarcowy wytrzymuje podwyższone temperatury i agresywne środki czyszczące bez degradacji.
• Wysoka czystość bez wytrącania zanieczyszczeń: Czysty materiał nie uwalnia żadnych zanieczyszczeń, utrzymując powierzchnie optyczne i obrabiane elementy wolne od zanieczyszczeń podczas użytkowania.
• Doskonała płaskość: Precyzyjnie wykończona płyta stanowi płaską powierzchnię referencyjną, która zapewnia stabilne i powtarzalne pomiary.

Rowkowana podstawa kwarcowa jest przeznaczona do systemów optycznych i laboratoryjnych wymagających precyzyjnego, stabilnego umieszczania elementów w trudnych warunkach. Jest powszechnie stosowana jako nośnik pozycjonujący dla elementów optycznych, gdzie precyzyjny rowek utrzymuje soczewki, filtry lub próbki w stałej lokalizacji i orientacji. W układach do testowania i pomiarów spektralnych podstawa stanowi czystą, płaską i chemicznie obojętną platformę, która nie zakłóca sygnałów optycznych. Dzięki silnej stabilności termicznej płyta jest szczególnie odpowiednia do wysokotemperaturowych zastosowań optycznych, takich jak kondycjonowanie źródeł światła i uchwyty do testów termicznych, gdzie zwykłe materiały odkształcałyby się lub zanieczyszczały ścieżkę optyczną. Odporna na zarysowania polerowana powierzchnia sprawia również, że idealnie nadaje się do obsługi cennych obrabianych elementów, które muszą pozostać wolne od śladów i defektów przez cały czas inspekcji.

• Doskonała płaskość: Precyzyjnie szlifowana i polerowana powierzchnia zapewnia płaską referencję, która utrzymuje geometrię pomiarową stabilną i powtarzalną.
• Ścisła tolerancja obróbki rowków: Szerokość i głębokość rowka są kontrolowane w wąskich granicach, gwarantując spójne osadzenie elementów.
• Odporność na zarysowania obrabianych elementów: Gładkie polerowane wykończenie minimalizuje ryzyko zarysowania soczewek, luster i próbek podczas ładowania i rozładowywania.
• Silna stabilność termiczna: Podstawa zachowuje integralność wymiarową i optyczną w wysokich temperaturach, dzięki czemu dobrze nadaje się do wysokotemperaturowych scenariuszy optycznych.